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  1. 研究者名(五十音順)
  2. 転出・退職・特任研究者(2016-)
  3. 福田 永(FUKUDA Hisashi)
  1. 研究者名(五十音順)
  2. 植杉 克弘(UESUGI Katsuhiro)
  1. 地域共同研究開発センター研究報告
  2. No. 24

次世代高性能シリコン薄膜デバイス製造に向けた低温シリコン膜の研究開発(平成23年度)

http://hdl.handle.net/10258/00009042
http://hdl.handle.net/10258/00009042
6c99735a-02d5-405a-877d-307361c71388
名前 / ファイル ライセンス アクション
No24-ken_1-3.pdf No24-ken_1-3.pdf (467.3 kB)
Item type 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1)
公開日 2016-11-21
タイトル
タイトル 次世代高性能シリコン薄膜デバイス製造に向けた低温シリコン膜の研究開発(平成23年度)
言語 ja
言語
言語 jpn
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ departmental bulletin paper
アクセス権
アクセス権 open access
アクセス権URI http://purl.org/coar/access_right/c_abf2
著者 福田, 永

× 福田, 永

ja 福田, 永

en FUKUDA, Hisashi

ja-Kana フクダ, ヒサシ


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植杉, 克弘

× 植杉, 克弘

ja 植杉, 克弘

ja-Kana ウエスギ, カツヒロ

en UESUGI, Katsuhiro


Search repository
城, 尚志

× 城, 尚志

ja 城, 尚志

en SHIRO, Takashi

ja-Kana シロ, タカシ


Search repository
室蘭工業大学研究者データベースへのリンク
福田 永(FUKUDA Hisashi)
http://rdsoran.muroran-it.ac.jp/html/100000255_ja.html
室蘭工業大学研究者データベースへのリンク
植杉 克弘(UESUGI Katsuhiro)
http://rdsoran.muroran-it.ac.jp/html/100000144_ja.html
書誌情報 ja : 室蘭工業大学地域共同研究開発センター研究報告

巻 24, p. 1-3, 発行日 2014-02
注記
内容記述タイプ Other
内容記述 共同研究プロジェクト成果
言語 ja
出版者
出版者 室蘭工業大学地域共同研究開発センター
言語 ja
論文ID(NAID)
関連タイプ isIdenticalTo
識別子タイプ NAID
関連識別子 40020050577
日本十進分類法
主題Scheme NDC
主題 549.8
書誌レコードID
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AN10363915
権利
言語 ja
権利情報 © 2014 室蘭工業大学地域共同研究開発センター
参考URL
識別子タイプ URI
関連識別子 https://www.muroran-it.ac.jp/crd/books/report.html
著者版フラグ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
主となる版
関連タイプ isVersionOf
識別子タイプ URI
関連識別子 https://www.muroran-it.ac.jp/crd/books/pdf/No24-ken.pdf
フォーマット
内容記述タイプ Other
内容記述 application/pdf
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Ver.1 2023-06-19 11:38:26.943415
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