WEKO3
アイテム / Computational study on silicon oxide plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) process using tetraethoxysilane/oxygen/argon/helium / JJAP_58_SE_SEED06
JJAP_58_SE_SEED06
ファイル | ライセンス |
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JJAP_58_SE_SEED06.pdf (1.5 MB) sha256 f5b2867e9100953ae30cfc8daa7d09953414229585be783c61dbb203ed9e8c2e |
公開日 | 2019-07-24 | |||||
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ファイル名 | JJAP_58_SE_SEED06.pdf | |||||
本文URL | https://muroran-it.repo.nii.ac.jp/record/10019/files/JJAP_58_SE_SEED06.pdf | |||||
ラベル | JJAP_58_SE_SEED06 | |||||
オブジェクトタイプ | fulltext | |||||
フォーマット | application/pdf | |||||
サイズ | 1.5 MB |
Version | Date Modified | Object File Name | File Size | File Hash Value | Contributor Name | Show/Hide |
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