@article{oai:muroran-it.repo.nii.ac.jp:00007176,
 author = {境,  昌宏 and SAKAI, Masahiro and 荒谷, 心太 and ARAYA, Shinta},
 issue = {3},
 journal = {材料と環境},
 month = {Oct},
 note = {application/pdf, シリカと塩化物イオンを含む人工淡水中に浸漬した銅板上に形成される皮膜をFT-IR，SEM，EPMA，カソード還元により調査した．シリカを含まない20 ppmCl－溶液中に浸漬した銅板上に形成されたスケールは主としてCu2Oからなり，その形状はファセット面を持つ角張ったものであった．一方，シリカを含む溶液中で形成されるスケールは粒状をしており，浸漬日数が増加するにつれてその大きさ，数ともに増大し，銅板上に凝集・堆積する．FT-IRにより，その成分はシロキサン結合を含むケイ素の酸化物であることが明らかとなった．A film formed on copper plates immersed in the synthetic freshwater containing silica and chloride ion has been assessed using FT-IR, SEM, EPMA and cathodic reduction. The scale formed on copper plates immersed in 20 ppm Cl− solution without silica composed mainly cuprous oxide (Cu2O) and its morphology was angular shape with facet faces. Granular scales aggregated and deposited on copper plates immersed in the solution containing silica and increased in size and number with immersion period. The composition of the scale was found to be a silicon oxide containing siloxane bonds by FT-IR analysis.},
 pages = {107--110},
 title = {シリカおよび塩化物イオンを含む人工淡水中における銅の皮膜形成挙動},
 volume = {62},
 year = {2013},
 yomi = {サカイ, マサヒロ and アラヤ, シンタ}
}