@article{oai:muroran-it.repo.nii.ac.jp:00007707,
 author = {岸浪, 紘機 and KISHINAMI, Koki and 斎藤, 図 and SAITO, Hakaru and 戸倉,  郁夫 and TOKURA, Ikuo},
 issue = {3},
 journal = {室蘭工業大学研究報告. 理工編, Memoirs of the Muroran Institute of Technology. Science and engineering},
 month = {Sep},
 note = {application/pdf},
 pages = {923--935},
 title = {静止流体中における等温回転円板上の層流境界層の研究 : 積分法による速度,温度分布の一計算},
 volume = {7},
 year = {1972},
 yomi = {キシナミ, コウキ and サイトウ, ハカル and トクラ, イクオ}
}