@article{oai:muroran-it.repo.nii.ac.jp:00009063,
 author = {福田,  永 and FUKUDA, Hisashi and 植杉, 克弘 and UESUGI, Katsuhiro and 城, 尚志 and SHIRO, Takashi},
 journal = {室蘭工業大学地域共同研究開発センター研究報告},
 month = {Feb},
 note = {application/pdf, 共同研究プロジェクト成果},
 pages = {4--6},
 title = {次世代高性能シリコンデバイス製造に向けた新規プロセスの研究開発(平成24年度)},
 volume = {24},
 year = {2014},
 yomi = {フクダ, ヒサシ and ウエスギ, カツヒロ and シロ, タカシ}
}