@article{oai:muroran-it.repo.nii.ac.jp:00009819,
 author = {朴, 峻秀 and PARK, Joon-Soo and 香山, 晃 and KOHYAMA, Akira and 岸本, 弘立 and KISHIMOTO, Hirotatsu and 中里, 直史 and NAKAZATO, Naofumi and 神田, 千智 and KANDA, Chisato and 早坂, 大輔 and HAYASAKA, Daisuke and 青木, 正治 and AOKI, Masaharu and 牧村, 俊介 and MAKIMURA, Syunsuke and 的場, 史朗 and MATOBA, Shiro},
 journal = {室蘭工業大学地域共同研究開発センター研究報告},
 month = {Feb},
 note = {application/pdf},
 pages = {10--14},
 title = {SiC/SiCターゲット用新製造プロセスの検討},
 volume = {27},
 year = {2017},
 yomi = {パク, ジュンス and コウヤマ, アキラ and キシモト, ヒロタツ and ナカザト, ナオフミ and カンダ, チサト and ハヤサカ, ダイスケ and アオキ, マサハル and マキムラ, シュンスケ and マトバ, シロウ}
}