良質なシリコン陽極酸化膜の形成とMOSFETへの応用

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Permalink : http://hdl.handle.net/10258/3753

File / Name	License
r10-5_771.pdf
r10-5_771.pdf (740.8KB) [ 1621 downloads ]

アイテムタイプ	紀要論文 / Departmental Bulletin Paper
言語	日本語
その他（別言語等）のタイトル	Growth of Good Quality Silicon Anodic Oxide Films and its Application to MOSFET
著者	南條淳二小林研木村洋一野村滋原進一
著者（別表記）	NANJO Junji KOBAYASHI Ken KIMURA Yoichi NOMURA Shigeru HARA Shin-ichi
雑誌名	室蘭工業大学研究報告. 理工編
巻	10
号	5
ページ	771 - 781
発行年	1983-11-30
出版者	室蘭工業大学
論文ID（NAID）	http://ci.nii.ac.jp/naid/40003627587
日本十進分類法	541
ISSN	05802415
書誌レコードID	AN00238225
著者版フラグ	publisher
フォーマット	application/pdf

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