| Item type |
紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1) |
| 公開日 |
2014-07-30 |
| タイトル |
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タイトル |
良質なシリコン陽極酸化膜の形成とMOSFETへの応用 |
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言語 |
ja |
| タイトル |
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タイトル |
Growth of Good Quality Silicon Anodic Oxide Films and its Application to MOSFET |
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言語 |
en |
| 言語 |
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言語 |
jpn |
| 資源タイプ |
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資源タイプ識別子 |
http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 |
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資源タイプ |
departmental bulletin paper |
| アクセス権 |
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アクセス権 |
open access |
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アクセス権URI |
http://purl.org/coar/access_right/c_abf2 |
| 著者 |
南條, 淳二
小林, 研
木村, 洋一
野村, 滋
原, 進一
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| 書誌情報 |
ja : 室蘭工業大学研究報告. 理工編
en : Memoirs of the Muroran Institute of Technology. Science and engineering
巻 10,
号 5,
p. 771-781,
発行日 1983-11-30
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| 出版者 |
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出版者 |
室蘭工業大学 |
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言語 |
ja |
| 論文ID（NAID） |
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関連タイプ |
isIdenticalTo |
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識別子タイプ |
NAID |
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関連識別子 |
40003627587 |
| 日本十進分類法 |
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主題Scheme |
NDC |
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主題 |
541 |
| ISSN |
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収録物識別子タイプ |
PISSN |
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収録物識別子 |
05802415 |
| 書誌レコードID |
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収録物識別子タイプ |
NCID |
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収録物識別子 |
AN00238225 |
| 著者版フラグ |
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出版タイプ |
VoR |
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出版タイプResource |
http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 |
| フォーマット |
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内容記述タイプ |
Other |
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内容記述 |
application/pdf |
r10-5_771.pdf (740.8 kB)
