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  1. 室蘭工業大学紀要
  2. 第44号 - 理工編

Surface Photovoltage Monitoring of Heavy Metal Contamination on Silicon During Chemical Cleaning in IC Manufacturing

http://hdl.handle.net/10258/600
http://hdl.handle.net/10258/600
206d793c-fdb4-4d37-8a33-8faab8e98374
名前 / ファイル ライセンス アクション
kiyo44_rikou_pp1-14.pdf kiyo44_rikou_pp1-14.pdf (1.3 MB)
Item type 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1)
公開日 2014-03-04
タイトル
タイトル Surface Photovoltage Monitoring of Heavy Metal Contamination on Silicon During Chemical Cleaning in IC Manufacturing
言語 en
言語
言語 eng
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ departmental bulletin paper
アクセス権
アクセス権 open access
アクセス権URI http://purl.org/coar/access_right/c_abf2
著者 野村, 滋

× 野村, 滋

ja 野村, 滋

en NOMURA, Shigeru

ja-Kana ノムラ, シゲル


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遠藤, 敏明

× 遠藤, 敏明

en ENDO, Toshiaki

ja 遠藤, 敏明

ja-Kana エンドウ, トシアキ


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福田, 永

× 福田, 永

ja 福田, 永

en FUKUDA, Hisashi

ja-Kana フクダ, ヒサシ


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JASTRZEBSKI, Lubek

× JASTRZEBSKI, Lubek

en JASTRZEBSKI, Lubek


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LAGOWSKI, Jacek

× LAGOWSKI, Jacek

en LAGOWSKI, Jacek


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抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 The principles and application examples of recently refined,computerized surface photovoltage (SPV) method are described. The SPV method was used to optimize cleaning efficiency and to monitor 'in-line' heavy metal contamination and charge during critical processing steps for Statistical Process Control (SPC). Examples of the optimization of various cleaning steps,effects of the purity of virgin and reused chemicals, and the surface topology on cleaning efficiency will be given together with examples of SPC monitoring of real problems in processing lines. Cleanliness of incoming chemicals is not always a limiting factor and often is not related to the cleanliness of chemicals at the point of use (in the cleaning station). This new method is capable of waferscale,non- contact mapping of metal contaminants in the bulk and on the surface with sensitivities as high as 10¹⁰atoms cm-³.
言語 en
書誌情報 ja : 室蘭工業大学研究報告. 理工編
en : Memoirs of the Muroran Institute of Technology. Science and engineering

巻 44, p. 1-14, 発行日 1994-11-25
出版者
出版者 室蘭工業大学
言語 ja
論文ID(NAID)
関連タイプ isIdenticalTo
識別子タイプ NAID
関連識別子 110000351871
日本十進分類法
主題Scheme NDC
主題 549.8
ISSN
収録物識別子タイプ PISSN
収録物識別子 05802415
書誌レコードID
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AN00238225
著者版フラグ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
フォーマット
内容記述タイプ Other
内容記述 application/pdf
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Ver.1 2023-06-19 12:33:20.864767
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