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  1. 研究者名(五十音順)
  2. 佐藤 孝紀(SATOH Kohki)
  1. 室蘭工業大学紀要
  2. 第49号

Propagator法による容量結合方窒素RFプラズマの解析

http://hdl.handle.net/10258/157
http://hdl.handle.net/10258/157
7aeaecc1-5a1b-46c8-ac46-b39dcea24fe9
名前 / ファイル ライセンス アクション
49_toukou02.pdf 49_toukou02.pdf (641.6 kB)
Item type 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1)
公開日 2007-06-12
タイトル
タイトル Propagator法による容量結合方窒素RFプラズマの解析
言語 ja
タイトル
タイトル Computer simulation of Capacitively Coupled Radio Frequency Plasma in Nitrogen using Propagator Method
言語 en
言語
言語 jpn
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 radio frequency discharge
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 nitrogen gas
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 self-consistent model
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 propagator method
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 computer simulation
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ departmental bulletin paper
アクセス権
アクセス権 open access
アクセス権URI http://purl.org/coar/access_right/c_abf2
著者 佐藤, 孝紀

× 佐藤, 孝紀

ja 佐藤, 孝紀

ja-Kana サトウ, コウキ

en SATOH, Kohki


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伊藤, 秀範

× 伊藤, 秀範

ja 伊藤, 秀範

en ITOH, Hidenori

ja-Kana イトウ, ヒデノリ


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田頭, 博昭

× 田頭, 博昭

ja 田頭, 博昭

en TAGASHIRA, Hiroaki

ja-Kana タガシラ, ヒロアキ


Search repository
室蘭工業大学研究者データベースへのリンク
佐藤 孝紀(SATOH Kohki)
http://rdsoran.muroran-it.ac.jp/html/100000024_ja.html
抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 Behavior of electrons and N2+ ions in radio frequency(RF) discharge in nitrogen is simulated by self-consistent model using Propagator method coupled with Poisson's equation and external circuit equations. The spatio-temporal variations of electric field in a gap, mean energies of the electrons and ions, excitation rate etc, are obtained. It is seen that in the spatio-temporal variation of excitation rate to C3.PI.u state, large peaks due to sheath appear at the phase of maximum voltage of RF power, and small peaks next to the large peaks appear at the same phase. This profile agrees qualitatively with the density profile of C3.PI.u state molecules obtained from emission spectroscopy. It is found from this simulation that the small peaks are due to double layers.
言語 en
書誌情報 ja : 室蘭工業大学紀要
en : Memoirs of the Muroran Institute of Technology

巻 49, p. 87-92, 発行日 1999-11-30
注記
内容記述タイプ Other
内容記述 投稿論文
言語 ja
出版者
出版者 室蘭工業大学
言語 ja
論文ID(NAID)
関連タイプ isIdenticalTo
識別子タイプ NAID
関連識別子 110000076530
日本十進分類法
主題Scheme NDC
主題 435
ISSN
収録物識別子タイプ PISSN
収録物識別子 13442708
書誌レコードID
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AA11175464
権利
言語 ja
権利情報 © 1999 室蘭工業大学
著者版フラグ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
フォーマット
内容記述タイプ Other
内容記述 application/pdf
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Ver.1 2023-06-19 11:43:37.002706
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