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  1. 研究者名(五十音順)
  2. 転出・退職・特任研究者(2016-)
  3. 酒井 彰(SAKAI Akira)
  1. 室蘭工業大学紀要
  2. 第52号

反応性RFイオンプレーティング法によるBN皮膜の形成

http://hdl.handle.net/10258/105
http://hdl.handle.net/10258/105
16feb4eb-23b3-43ad-8bad-1320c76d07c2
名前 / ファイル ライセンス アクション
52_toukou09.pdf.pdf 52_toukou09.pdf.pdf (490.3 kB)
アイテムタイプ 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1)
公開日 2007-05-25
タイトル
タイトル 反応性RFイオンプレーティング法によるBN皮膜の形成
言語 ja
タイトル
タイトル Preparation of BN Films by Ractive RF Ion Plating Method
言語 en
言語
言語 jpn
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 boron nitride films
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 RF ion plating
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ departmental bulletin paper
アクセス権
アクセス権 open access
アクセス権URI http://purl.org/coar/access_right/c_abf2
著者 佐藤, 忠夫

× 佐藤, 忠夫

ja 佐藤, 忠夫

en SATO, Tadao

ja-Kana サトウ, タダオ


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若柳, 俊一

× 若柳, 俊一

ja 若柳, 俊一

en WAKAYANAGI, Shun-ichi

ja-Kana ワカヤナギ, シュンイチ


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渡邉, 孝幸

× 渡邉, 孝幸

ja 渡邉, 孝幸

en WATANABE, Takayuki

ja-Kana ワタナベ, タカユキ


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酒井, 彰

× 酒井, 彰

ja 酒井, 彰

en SAKAI, Akira

ja-Kana サカイ, アキラ


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室蘭工業大学研究者データベースへのリンク
酒井 彰(SAKAI Akira)
http://rdsoran.muroran-it.ac.jp/html/100000158_ja.html
抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 The sp2-bonded BN thin films were prepared onto the silicon substrate by RF ion plating under the conditions of supplied RF power of 18-110 W, substrate bias potential of -0.5kV, boron evaporation rate of 1.3 × 10-4kg/(㎡・s), vacuum chamber pressure of pN2+pAr=6.6 × 10-2Pa, and 21.7cm distance between substrate and vapar source. N/B atomic ratio of thc film increased with increases in pN2/(pN2+pAr) ratio and supplied RF power, The maximum ratio of the film oblained in this work was 0,95, when the film was prepared under the condition of supplied RF power of 110 W and pN2 =6.6×10-2Pa.
言語 en
書誌情報 ja : 室蘭工業大学紀要
en : Memoirs of the Muroran Institute of Technology

巻 52, p. 149-154, 発行日 2002-11-30
注記
内容記述タイプ Other
内容記述 投稿論文
言語 ja
出版者
出版者 室蘭工業大学
言語 ja
論文ID(NAID)
関連タイプ isIdenticalTo
識別子タイプ NAID
関連識別子 110000076602
日本十進分類法
主題Scheme NDC
主題 431
ISSN
収録物識別子タイプ PISSN
収録物識別子 13442708
書誌レコードID
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AA11175464
権利
権利情報 © 2002 室蘭工業大学
言語 ja
著者版フラグ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
フォーマット
内容記述タイプ Other
内容記述 application/pdf
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